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[2023]표면처리

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작성일 23-01-23 00:52

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1. 헐셀 시험법
- 도금층의 형상과 잘래에 생길지도 모르는 액의 사고를 예측



- 화학 analysis으로는 시간이 걸리는 성분(成分)

1. 헐셀 시험법
표면처리
설명


순서

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양극처리 도금방지처리 와트욕 크롬도금표준액 헤셀 / ()
5. 3가 크롬을 만들어 주는 방법
- 상당히 미량이면서 도금에 influence(영향)을 주는 성분(成分)

- 음극 : 광택있는 평활한 구리판, 황동판 또는 철판을 사용

7. 도금방지처리


양극처리 도금방지처리 와트욕 크롬도금표준액 헤셀
● 가장 좋은 예는 불순물의 검출, 피트 발생, 광택제의 과 부족, 내부응력, 광택제 소모량 등 많은 것을 알아 낼수 있다.레포트 > 기타
3. 니켈 도금의 일상 관리


4. 크롬도금 표준액
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● 석출상태 관리


8. 양극처리


양극처리 도금방지처리 와트욕 크롬도금표준액 헤셀 / ()

- 화학 성분(成分)으로는 얻을수 없는 성분(成分)
- 음극 시험판에 연속되는 넓은 범위의 전류 밀도에서 석출이 되도록 한 것이다.
2. 와트욕

- 양극 : 용해성 양극판을 사용


6. 걸이

다.
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REPORT 73(sv75)



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